| 歩留まり解析ソフト/システム |
| DFMツールとプロセス最適化 PROLITH 高度なリソグラフィ最適化 |
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 PROLITHTMバージョン10(v10)では、実績のあるPROLITHのリソグラフィ最適化機能が、世界で最も強力な予測性能を備えたモデルベースの光学的近接効果補正(OPC)で拡張されています。このツールは32nmノードでの高度なOPC開発のために既に導入されており、PROLITH-Based
OPC(PBOPC)の予測精度により、プロセスが完成する前の段階で、設計スケジュールに十分対応しています。PROLITH
v10では、適確にキャリブレーションされたレジストファイルを使用して3次元レジスト像を正確に予測することにより、次世代の複雑なデザインのますます厳しくなる生産スケジュールに対応できます。先進のICメーカやファウンダリは、PROLITHを使用して、他のどのツールよりも短時間で確実に、微小パターンデザインや製造条件を最適化しています。半導体業界の最適なDFM(Design
for manufacturing)製品であるPROLITHを使用することにより、設計から量産に至るサイクルを短縮し、ツールの総合的な稼働率を高め、新しいプロセスとテクノロジを短期間で導入し、さらに歩留まりを向上させることができます。アプリケーション リソグラフィ、エッチング その他のシミュレーション関連製品
Chris Mack著 “LITHOGRAPHY GLOSSARY”(米国本社HPへ) ユーザ専用ウェブサイト(英語)
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